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江蘇正置金相顯微 MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應(yīng)用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學系統(tǒng)使成像更清晰，

微分干涉金相顯微鏡供應(yīng)廠家 該款微分干涉顯微鏡的設(shè)計原理是以平面偏振光為光源，光線經(jīng)棱鏡折射后分成兩束，在不同時間經(jīng)過樣品的相鄰部位，然后經(jīng)過另一棱鏡將這兩束光匯合，從而樣品中厚度上的微小差別就會轉(zhuǎn)化成明暗區(qū)別，增加了樣品反差，造成了三維立體感。

正置金相顯微鏡公司供應(yīng)MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應(yīng)用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學系統(tǒng)使成像更清晰

倒置金相顯微鏡生產(chǎn)廠家 MKL系列倒置金相顯微鏡采用優(yōu)質(zhì)的無限遠光學系統(tǒng)，同時配備明暗場通用的長工作距離平場平場消色差物鏡，多光路的系統(tǒng)設(shè)計，可同時支持雙目鏡筒觀察和數(shù)碼攝像裝置觀察。

正置金相顯微鏡廠家 MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應(yīng)用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學系統(tǒng)使成像更清晰

金相分析圖譜供應(yīng)廠家 根據(jù)國家標準GB 10651-89，美國標準 ASTM：E45-87，主要適用于經(jīng)過延伸變形（如軋制、鍛造、冷拔等）的鋼材中非金屬夾雜物的顯微評定。檢驗夾雜物一般同時檢驗幾種類型的夾雜并經(jīng)常進行淬火處理。鋼中主要的元素是鐵，但并非純鐵，其中會含有一定的雜質(zhì)，雜物共有四種，分為A、B、C、D四類，A代表硫化物，B代表氧化鋁，C代表硅酸鹽類，D代表球狀氧化

蘇州金相分析圖譜供應(yīng) 根據(jù)國家標準GB 10651-89，美國標準 ASTM：E45-87，主要適用于經(jīng)過延伸變形（如軋制、鍛造、冷拔等）的鋼材中非金屬夾雜物的顯微評定。檢驗夾雜物一般同時檢驗幾種類型的夾雜并經(jīng)常進行淬火處理。鋼中主要的元素是鐵，但并非純鐵，其中會含有一定的雜質(zhì)，雜物共有四種，分為A、B、C、D四類，A代表硫化物，B代表氧化鋁，C代表硅酸鹽類，D代表球狀氧化

正置金相顯微鏡供應(yīng)MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應(yīng)用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學系統(tǒng)使成像更清晰